脉冲激光沉积 （Pulsed laser deposition, PLD），就是将激光聚焦于靶材上一个较小的面积，利用激光的高能量密度将部分靶材料蒸发甚至电离，使其能够脱离靶材而向基底运动，进而在基底上沉积，从而形成薄膜的一种方式。 在众多的薄膜制备方法中，脉冲激光沉积技术可用来制备金属、半导体、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各种物质薄膜，甚至还用来制备一些难以合成的材料膜，如金刚石、立方氮化物膜等。
SURFACE公司的PLD-Workstation是用于薄膜沉积的先进研发设备，利于探索新材料尤其是高级氧化物。
PLD-Workstation将PLD设备中的部件包括准分子激光器和激光气体集成到一个简单的框架内。紧凑的设计确保设备使用灵活，避免了许多安装工作，具有很强的通用性，没有PLD经验的用户也可以轻易上手。
PLD-Workstation将先进的沉积技术融入到功能强大而紧凑的设备中。
真空腔室专为科研而设计，多个备用法兰用于常规的原位分析工具或系统扩展
SURFWARE 软件- 先进的客户支持工具
| 准分子激光器 | Coherent COMPexPro 201F or 205F |
| 波长 | 248 nm |
| 激光气体 | 20 l 预混气体，10 l 氦气 |
| 工艺气体 | 2x MFC 通道 |
| 衬底加热器 | 2”850 ℃ 或1000 ℃ 1”或3”可选 |
| 衬底转速 | 0-50 RPM |
| 靶台 | 4x2”靶，转速0-50 PRM |
| 控制系统 | 基于电脑控制，集成的TFT 显示器 |
| IT 特色 | 局域网连接，SURFWARE 支持软件 |
| 设备尺寸 | 约 2200x850x1600 mm |
| 供电 | 3x400 VAC/50 Hz 或3x208 VAC/60 Hz |
| 水冷 | 含水冷机 |
原位同步加速器光束衍射/
散射研究的PLD 系统
MAPLE基质辅助
脉冲激光蒸发
同步辐射的衍射和反射是研究薄膜结构和界面的一种重要方法，因为样品不能暴露在大气中，即使是亚单层污染也可能破坏表面效应或改变薄膜性能。SURFACE In-Situ Beamline PLD系统实现了该功能的原位测试。
它是一个功能齐全的脉冲激光沉积系统，可用于同步加速器光束线。 该系统保持了标准PLD实验室系统的功能性，例如多靶位、高压 RHEED 、1200°C 的激光加热器以及Load lock系统. 并且针对X射线，还具有如下参数：衬底面内旋转±135°，倾斜±5°（分辨率0.001°）、水平 x / y方向距离为 ±6 mm， Z方向距离为 3 mm， 几分钟内快速开关的X射线测角器。控制机架中内置有传送和台升机构，快速定位连接，并且所有功能都可通过远程自动控制。
特点：
