杨氏模量无损测量

我公司在与国内外多家科研机构、高新技术企业等紧密合作的基础上，引入了“Labless Research”的概念，推出一站式分析测试服务，用户可直接将测试样品交由我们测试，这样既可以避免自身购置设备时的大量投入，也节省了维护设备所需的人员和经费。目前我公司提供的测试服务项目主要涉及材料的介电性能测量，杨氏模量无损测量服务。具体详情如下：

杨氏模量无损测量

设备名称：LAwave杨氏模量无损测量设备

设备原产地：德国

设备生产厂家：Fraunhofer IWS研究所

可测量样品种类：块体材料、薄膜材料（包括各类无机材料和聚合物材料）

可测量参数：杨氏模量、薄膜厚度、密度；可获得表面声波波速色散曲线ASCII数据、表面声波信号二进制数据、材料参数的Excel数据表格

主要用途：对于薄膜样品，知道薄膜厚度可测量杨氏模量，知道其杨氏模量可测量薄膜厚度；可通过测量表面声波波速的色散曲线来分析表面损伤程度、表面腐蚀程度、热喷涂材料的孔隙率等。另外，可以测量多层膜样品各层的杨氏模量、厚度。

样品要求：

• 块体材料：
• 尺寸：最小尺寸5 mm × 15 mm，最大可测4寸样品
• 厚度：单晶硅 ≥ 0.5 mm，其它材料 ≥ 2 mm
• 表面粗糙度：R_z ≤ 1 μm（平整表面有利于提高测试精度）
• 材料：要求材料对可见光波段有良好的吸收（即材料不透明），高分子材料或内部微结构缺陷较多的材料（会对声波传播产生较大阻尼）不适合测试
• 其它：需要已知块体材料的密度信息




• 薄膜材料：
• 尺寸：最小尺寸5 mm × 15 mm，最大可测4寸样品
• 薄膜厚度：＞ 10 nm
• 薄膜质量：采用电镀、溅射、喷涂、旋涂等方式，使薄膜与衬底紧密结合；薄膜材料本身连续且厚度均匀
• 表面粗糙度：R_z ≤ 1 μm（平整表面有利于提高测试精度）
• 基底材料：基底对可见光波段有良好的吸收（即材料不透明），推荐采用单抛单晶硅片作为基底材料，薄膜生长在抛光面上
• 薄膜材料：薄膜材料可以是透明的；高分子材料或内部微结构缺陷较多的材料，可能影响测试结果
• 其它：需要已知薄膜材料的厚度、密度信息